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光刻技术的现状和发展

内容提示：光刻技术的现状和发展*姜军,周芳,曾俊英,杨铁锋(昆明物理研究所,云南昆明 650223)摘要:着重从涂胶、曝光(包括光源和曝光方式等)、光刻胶和深度光刻等方面介绍了光刻技术的现状和...
光刻技术的历史与现状

集成电路的飞速发展有赖于相关的制造工艺—光刻技术的发展,光刻技术是迄今所能达到的最高精度的加工技术。集成电路产业是现代信息社会的基石。集成电路的发明使电子产品成本大幅度降低,尺寸奇迹...
光刻技术发展现状分析

【摘要】：随着半导体工业和纳米技术的飞速发展,对光刻技术提出了越来越高的要求。光学光刻技术经过几十年的发展,在方方面面都取得了巨大进步,同时在现有基础上继续提高也存在着难以克服的困难;...
光刻技术发展现状分析

光刻技术发展现状分析[J];乐山师范学院学报;2004年05期 5 路敦武,黄惠杰;激光全息用于微电子领域发展潜力的简析[J];激光与光电子学进展;1999年S1期 6;制版、光刻、腐蚀与掩模工艺[J];电子科技...

光刻技术现状