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  • 光刻技术的现状和发展

    着重从涂胶、曝光(包括光源和曝光方式等)、光刻胶和深度光刻等方面介绍了光刻技术的现状和未来的发展趋势.著录项来源《红外技术》| 2002年第6期 | 8-13,36 | 共7页...

  • 光刻技术发展现状分析

    【摘要】：随着半导体工业和纳米技术的飞速发展,对光刻技术提出了越来越高的要求。光学光刻技术经过几十年的发展,在方方面面都取得了巨大进步,同时在现有基础上继续提高也存在着难以克服的困难;而下一代光刻技术(NGL)尽管取得了...

  • 光刻技术的现状与进展毕业论文

    二、毕业实习论文 光刻技术的现状与进展 引言 光刻技术从诞生以来,在半导体加工制造行业中,作为图形转移技术而广为应用。随着芯片集成度的不断提高、器件尺寸的不断缩小以及器件功能的不断提高,...

  • 光刻技术的历史与现状

    光刻技术的历史与现状集成电路的飞速发展有赖于相关的制造工艺一光刻技术的发展，光刻技术是迄今所能达到的最高精度的加工技术。集成电路产业是现代信息社会的基石。集成电路的发明使电子产品成本大幅度降低，尺寸奇迹般减小。以计算机...

  • 光刻技术的历史与现状

    光刻技术的现状和发展[J];中国计量学院学报;2001年02期 2 快人;超紫外线光刻技术浮出水面[J];电脑采购周刊;2001年31期 3 刘加峰,胡存刚,宗仁鹤;光刻技术在微电子设备的应用及发展 [J];光电子技术与信息;2004年01期...

  • 光学光刻技术现状及发展趋势

    【摘要】：综述了光学光刻目前的主流技术—2 48nm曝光技术现状,介绍了折射式透镜和反射折射式透镜结构及性能。结合 1 93nm技术的开发,比较了 2种结构的优势。最后给出了光刻设备的市场概况并讨论了光学光刻技术的发展趋势。

  • 光刻技术的现状和发展

    光刻技术发展现状分析[J];乐山师范学院学报;2004年05期 7 张立国,陈迪,杨帆,李以贵;SU-8胶光刻工艺研究[J];光学精密工程;2002年03期 8 李建康,姚熹,汪静,张良莹;红外热...

  • 光刻技术的现状和发展

    光刻技术的现状和发展 近两年来，芯片制造成为了半导体行业发展的焦点。芯片制造离不开 光刻机，而光刻技术则是光刻机发展的重要推动力。在过去数十载的 发展中，光刻技术也衍生了多个分支，...

  • 光刻技术的历史与现状

    光刻技术的历史与现状 最后微透镜阵列组要与聚光镜组配合才会得到较好的照明均匀性通常采用柯勒照明kohlerillumination方式微透镜阵列组的前透镜阵列被它后面的光学系统在掩模上成像时其后透镜...

  • 光刻技术的现状和发展

    摘要：着重从涂胶,曝光(包括光源和曝光方式等),光刻胶和深度光刻等方面介绍了光刻技术的现状和未来的发展趋势.查看全部>> 图1 投影式光刻机原理图 图2 汞灯和准分子激光器的发射谱与能量的比较 ...

光刻技术现状

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