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里程碑！工信部推广国产DUV光刻机：套刻≤8nm
中国首台（套）重大技术装备是指国内实现重大技术突破、拥有知识产权、尚未取得明显市场业绩的装备产品，包括整机设备、核心系统和关键零部件等。而就在电子专用装备目录下，集成电路设备方...
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重大突破！中国光刻机问世，价格只是国外产品2%
光刻机，ASML的193nm光刻机售价在7000万美元以上，EUV光刻机售价在1亿欧元以上，中科院的这套光刻机才多少钱呢？一两千万人民...
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中科院研制光刻机重大突破 国产芯片最短板终于补齐
台积电之所以能生产，是因为它的7nm工艺，来自荷兰ASML（阿斯麦）公司生产的EUV光刻机。这种设备目前全世界只有这一家公司能生产。图源：中国进出口网 作为集成电路制造过程中最核心的设备...
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国产光刻机背后的希望
无锡影速半导体是由中科院微电子所联合业内技术团队、产业基金发起成立的专业微电子装备企业，目前已成功研发国际首台双台面高速激光直接成像连线设备（LDI），实现了最高200nm的量产。
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阿斯麦光刻机来了，掀起国内半导体的制造浪潮！
长江存储的首台光刻机同样来自ASML，为193nm浸润式光刻机，售价7200万美元，约人民币4.6亿元，用于14nm——20nm工艺。这也从侧...
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投资界24h | 俄罗斯宣布造出首台350nm光刻机； 95后，一举融资70亿；安徽引导金一举要投7家GP
俄罗斯制造出首台国产350nm芯片光刻机，并宣称2028年投产7nm芯片设备 俄罗斯成功研发首台国产350nm芯片光刻机，成本约500万卢布。目前正在测试中，有望应用于汽车、能源、电信等行业。俄副工业和贸易部长施帕克表示，俄将成为第五个掌...
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27亿一台！ASML展示最新EUV光刻机内部画面：不怕被偷师嘛
High-NA EUV光刻机能够在半导体上蚀刻出仅8nm宽的线条，是上一代产品的1/1.7。更细的线条意味着芯片可以容纳更多的晶体管...
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