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开启芯片时代 光刻机的前世今生
20世纪60年代，美国GCA公司制造出第一台接触式光刻机，并成为当时的主流产品。此时，伴随着半导体的应用范围日益广泛，光刻机的市场需求不断上升，作为GCA供应链的日本尼康和佳能也开启了光刻机的研发。 荷兰 飞利浦 旗下的一...
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光刻机编年史（1959
1959年，仙童半导体的Jay Last和Robert Noyce在母公司的支持下，制造了世界上第一台“步进重复（step and repeat）”相机，使用光刻技术在单个晶圆片上制造了许多相同的硅晶体管。1959年以来的半导体曝光系统发展编年简史，每十年...
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中国首台高端光刻机赴法国参展记
国务院决定让清华大学自主研发的第一台光刻机参加展出。这将是因“文革”浩劫而与世隔绝的中国科技界产品首次在国际舞台亮相。接到上级的通知后，清华大学立即行动起来。然而，要将这一台中国此时最高端的精密仪器从特殊的工作室里安全...
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2002年，国产光刻机问世：我国半导体产业发展的新篇章
经查阅相关资料，我国第一台光刻机是在2002年由上海微电子装备(集团)股份有限公司(SMEE)生产的。这一年，我国在光刻机领域取得了突破性进展，标志着我国在这一领域的发展迈上了一个新台阶。在过去的十几年里，我国的光刻机产业取...
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我国第一台光刻机的意义与差距！
值得注意的是，在重大技术装备文件列表中包含了国产氟化氪光刻机（110nm），和氟化氩(ArF)光刻机（65nm）的内容。两者均属于DUV光刻机，氟化氩光刻机参数为分辨率≤65nm、套刻≤8nm；氟化氪光刻...
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一文读懂光刻机的发展历程
利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝 光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用。这就是光刻的作用，类似...
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光刻机的发展史
20世纪60年代，美国GCA公司制造出来第一台接触式光刻机，接触式光刻机就是将光掩模直接盖在硅片上，使得两者直接接触，然后在其上方用光线照射。在同时期，日本的尼康和佳能打入了GCA的供应链，...
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特大喜讯！中国第一台芯片光刻机成功交付使用！
这款光刻机的身上，凝聚了无数科研人员的智慧与坚持，它不仅仅是一台机器，更是一面旗帜，标志着中国在高端芯片制造领域的崛起。技术上的创新点，是这款国产光刻机的灵魂。从紫外光源到曝光精度...
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中国第一台光刻机诞生了
光刻机 扫描曝光模型 扫描曝光过程的抽象模型如图 1 所示。激光器发出的脉冲光束经过光路传输系统，从开口大小可调的狭缝中投影到工件台上，形成投影光斑。当曝光场前沿与光斑前沿重合时，扫描...
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特大喜讯！中国第一台芯片光刻机成功交付使用！
在科技迅猛发展的今天，光刻机的成功交付如同一颗耀眼的明星，照亮了中国半导体产业的未来 中国首台28纳米工艺级别光刻机的问世，标志着一个时代的变革 曾几何时，中国在这一领域只能仰望国际...
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