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  • 求索于微观尽头—谈谈我眼中的光刻技术

    要想谈光刻技术,首先需要知道什么是光刻技术。简单来说,光刻技术就是用光化学反应(photo–chemical reaction)原理,把想要的图形「印刷」到晶圆(wafer)上的过程。这么说来,光刻工艺真不应该叫刻,应该叫印。毕竟一个一个一个晶体...

  • ASML科普,EUV光刻机的奇迹之路

    美国和荷兰的实验室很快也开始探索这一潜在的光刻技术新发展。最初被称为“soft x-ray”光刻,“extreme ultraviolet”这个名称的灵感来自天文学家对相同光波长和光子能量使用的术语。在光刻技术中,使用较短的光波长使芯片制造商能...

  • EUV光刻,日本强在哪儿?

    随着摩尔定律发展,芯片工艺不断向更小的节点发展,传统的深紫外(DUV)光刻技术已经遇到了物理极限,无法满足更高分辨率和更低成本的要求。因此,极紫外(EUV)光刻技术应运而生,它使用13.5nm...

  • 日本买的EUV光刻机开始安装,准备造2nm芯片

    极紫外光刻设备结合了特殊的光源、透镜和其他技术,以形成超精细的电路图案。因为系统的体积较大,因此对振动和其他干扰的敏感度较低。11月,Rapidus CEO 小池淳义带ASML监事会成员Martin van ...

  • 市占高达90%,日本持续发力EUV光刻胶

    其他日本光刻胶大厂,包括JSR与东京应化工业公司,也同时在日本与海外生产EUV光刻胶,而住友化学和富士胶片(Fujifilm)则准备进入这一领域。延伸阅读:什么是光刻胶 光刻胶是微电子技术中微细...

  • EUV光刻,日本强在哪儿?

    随着摩尔定律发展,芯片工艺不断向更小的节点发展,传统的深紫外(DUV)光刻技术已经遇到了物理极限,无法满足更高分辨率和更低成本的要求。因此,极紫外(EUV)光刻技术应运而生,它使用13.5nm...

  • 光刻技术新进展

    紧随Intel之后,欧洲的ASML、日本的Nikon和Canon浸入式光刻机计划纷纷出笼。尼康公司不久前宣称浸入式光刻技术开发已进入尾声,去年年底已把用于 65纳米节点的试用机给客户,量产机也将于今年年底推出。 但浸入式光刻仍面临巨大...

  • 日本人还没封死的光刻胶,我们已经火烧眉毛了!传感器专家网

    就在最近,日本产业革新投资机构(JIC)同意要 收购全球最大的日本光刻胶巨头JSR,它拥有全球3成左右的光刻胶市场份额。收购价接近 1万亿日元(9093亿日元),约合464亿人民币。而这家投资机构...

  • 日本光刻胶要断供?

    作为半导体制造重要材料,由于技术壁垒和客户壁垒较高,全球半导体光刻胶市场集中度一直很高,市场长期被日美厂商垄断。在全球各类芯片纷纷缺货之际,行业媒体报道称,由于日本信越化学KrF光刻...

  • EUV光刻,日本强在哪儿?

    随着摩尔定律发展,芯片工艺不断向更小的节点发展,传统的深紫外(DUV)光刻技术已经遇到了物理极限,无法满足更高分辨率和更低成本的要求。因此,极紫外(EUV)光刻技术应运而生,它使用13.5nm...

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