抛光液对人有什么危害

如果只是微米级的磨粒和水或油混合而成的所谓“抛光液”，基本没什么关系，就当泥浆好了。对皮肤有轻微的腐蚀作用，工作时可戴上防腐手套，防腐衣服

中国CMP抛光液磨粒市场价值评估及前景深度研究报告2025

3.4.1 solvay基本信息、cmp抛光液磨粒生产基地、总部、竞争对手及市场地位3.4.2 solvay cmp抛光液磨粒产品规格、参数及市场应用3.4.3 solvay在中国市场cmp抛光液磨粒销量、收入、价格及毛利率（2020-2025） 3.

静电层层自组装复合磨粒及抛光液的抛光性能研究

摘要：利用静电层层自组装原理,通过PDADMAC在聚合物粒子表面改性和吸附不同层数的SiO2磨粒,制备n-SiO2/BGF复合磨粒及其抛光液。分析了交替吸附PDADMAC和SiO2磨粒的BGF微球表面Zeta电位的变化,利用TEM表征了不同层数...

一种复合磨粒抛光液及其制备方法.doc

备方法，所述抛光液包括质量分数为0.01％‑60％的复合磨粒、37％‑99.97％的水、0.01％‑2％的分 散剂和0.01％‑1％的pH值调整剂；所述复合磨粒 为核壳结构，所述复合磨粒的内核为聚苯乙烯微 球，所述聚苯乙烯微球的表面负载有软...

利用复合磨粒抛光液的硅片化学机械抛光.pdf

利用复合磨粒抛光液的硅片化学机械抛光.pdf,第17卷第7期 光学精密-丁程 V01．17No．7 Precision and Engineering 2009年7月 Optics Jul．2009 文章编号 1004—924X(2009)07—1587—07 利用复合磨粒抛光液的硅片化学机械抛光 许雪峰，马 冰迅，黄亦申，彭 伟 (浙江工业大学机械制造及自动化教育部重点实验室，浙江杭州310032) 摘要：为了提高硅片的抛光速率。利用

利用复合磨粒抛光液的硅片化学机械抛光

【摘要】：为了提高硅片的抛光速率,利用复合磨粒抛光液对硅片进行化学机械抛光。分析了SiO2磨粒与聚苯乙烯粒子在溶液中的ζ电位及粒子间的相互作用机制,观察到SiO2磨粒吸附在聚苯乙烯及某种氨基树脂粒子表面的现象。通过向单一磨粒抛...

化学机械抛光磨粒及其制备方法和抛光液

本发明属于抛光领域，提供一种化学机械抛光磨粒及其制备方法和抛光液。所述化学机械抛光磨粒具有多孔结构，且所述化学机械抛光磨粒的材料包括聚合物和/或聚合物的焙烧产物。该化学机械抛光磨粒在化学机械平坦化过程中可以降低化学机械...

利用复合磨粒抛光液的硅片化学机械抛光

分析了SiOz磨粒与聚苯乙烯粒子在溶液中的f电f诳及粒子间的相瓦作用机制，观察到Si（）：磨粒吸附在聚苯乙烯及某种氨基树脂粒子表面的现象。通过向单一磨粒抛光液中加入聚合物粒子的方法获得了复合磨粒抛光液。对硅片传统化学机械抛光与利用复合磨粒抛光...

一种复合磨粒抛光液及其制备方法

74专利代理机构长沙轩荣专利代理有限公司4335代理人黄艺平51Int.Cl.C09G1/0006.0154发明名称一种复合磨粒抛光液及其制备方法57摘要本发明提供了一种复合磨粒抛光液及其制备方法，所述抛光液包括...

一种复合磨粒抛光液及其制备方法

本发明提供了一种复合磨粒抛光液及其制备方法，所述抛光液包括质量分数为0.01％‑60％的复合磨粒、37％‑99.97％的水、0.01％‑2％的分散剂和0.01％‑1％的pH值调整剂；所述复合磨粒为核壳结构，所述复合磨粒的内核为聚苯乙烯微球...