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    图 1 光刻技术及光刻胶的发展趋势 随着曝光波长的变化，光刻胶中的关键组分，如成膜树脂、感光剂、添加剂也随之发生变化，使光刻胶的综合性能能更好地集成工艺制程要求。表1 目前集成电路制作中使用的主要光刻胶 光刻胶体系 成膜树...

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    我国光刻胶行业发展现状 2016全球光刻胶市场规模及结构（亿美元）2016我国光刻胶市场规模及增速（亿元） 整体来看，我国进口光刻胶占据国内87%的市场份额，自给率低。而国内光刻胶受益于半导体...

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    内容提示： 文档格式：PDF|页数：4|浏览次数：10|上传日期：2014-06-03 05:53:47|文档星级：    |文档分类：学术论文>学士论文|字数：8|大小：0 B

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我国光刻胶的发展现状

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