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工信部官爆料，14nm国产光刻机，距离ASML的EUV光刻机还有多远？
我们也要清醒地认识到，国产14nm光刻机虽然取得了重大突破，但与ASML的EUV光刻机相比，在技术水平和市场份额上仍存在一定差距。EUV光刻机代表着当今世界光刻技术的最高水平，能够制造7nm及以下的更先进芯片，而这正是未来芯片发展的...
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国产14nm芯片的推出，证明了国产浸润式光刻机真正量产投入使用
如果属于第二种情况，那么国产14nm芯片的推出，或许证明了国产浸入式光刻机真正量产投入使用，因为只有用上国产技术，才能不受美国规则的束缚。这也许是当下对芯片来源的一个解释，而纵观国产...
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中国首台14nm高端光刻机终于进厂 国产芯片崛起指日可待
来自媒体最新报道消息，武汉弘芯已经正式引进光刻机技术，据说可以用于14nm芯片生产，弘芯半导体方面表示已经开始研发14nm工艺制程了，一旦成功意味着将是它将成为中芯国际及华力半导体之后第三...
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中国首台14nm高端光刻机终于进厂 国产芯片崛起指日可待
可长期来看对于中国肯定是好事，未来国产芯片产能也将不断提升，中国芯片迎来曙光，14nm光刻机终于进厂，未来可期，你们怎么看?
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国产芯片自主化新进展：除光刻机外，14nm工艺已实现全面国产
因此，如果全部使用国产设备，除了光刻机之外，中国应该能够达到14纳米的生产水平。但使用国产光刻机生产芯片，则可能面临较大的困难，甚至28纳米都是一个挑战。因此，国产光刻机的突破成为了当前最为紧迫的任务。一旦国产光刻机技术跟...
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除了光刻机，国产芯片，已经实现了14nm工艺的自主化
可见，如果全部替换掉国外设备，采用全套国产设备，除了光刻机之外，应该是能够达到14nm的，但使用国产光刻机，可能问题就比较大了，也许28nm都不一定。所以接下来，国产光刻机的突破势在必行，只要光刻机跟上，我们就没那么在乎禁令了...
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我们才刚刚到手14nm光刻机，别人却在研发3nm工艺！别慌！
当然了，这饭总是要一口一口吃，细嚼慢咽，我们刚刚从荷兰拿到了两天14nm的光刻机，钱花了多少不重要，这技术对与错国产芯片可是又一个突破口，虽说和三星国外差上两三代的距离！但是我们一直待努力从没放弃！三星宣布进军3nm研究，现在...
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国人振奋，纯国产的14nm将在明年底实现，ASML或许真的后悔了
目前国产光刻机已做到40nm，其中的关键就是如何以技术手段将193nm的光源通过水介质折射后进一步缩短，而将193nm的光源通过水介质折射后用于生产28nm、14nm的光源原理应该类似，近期就有业界人士传出国产的光源技术已成功取得突破，将光...
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被日本长期垄断，国产14nm光刻胶开始投产，南大光电这次立功了
值得一提的是，这次的ArF光刻胶技术是应用于14nm芯片的，国内最先进的芯片制造厂商中芯国际，芯片制造实力也正处于14nm制程工艺的水平，所以南大光电所生产出的光刻胶，与中芯国际的业务十分...
国产光刻机14nm
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