-
中国芯片巨头进口7nm光刻机受阻，那么国产光刻机现状如何？
目前国产光刻机水平仅限于第三级别，也就是低端领域，且仅有上海微电子能够生产低端光刻机，至于制作工艺基本也仅限于90nm，与目前最新的7nm相比还有着很大的差距。但在后续准备中，国产光刻机工艺范畴已经突破了28nm，但依旧无法与荷兰ASML公司相抗衡。 不过在近期，有媒体报道，由武汉光电国家研究中心的甘棕松团队，目前已经成功研发出9nm工艺的光刻机，据了解此次国产光刻机利用二束激光在自研的光刻机上突破了光束衍射极限的限制，刻出了最小9nm
-
国产光刻机现状：没有5nm，现在仍在用180nm
目前国产最先进的光刻机仅是90nm制程工艺，而且用的还是国外20年前的光源技术。 更揪心的是90nm制程的光刻机我们也只有有一台，实际上国产光刻机能实现量产的只有180nm，必须要承认和荷兰ASML的5nm的EUV光刻机相比，我们还有很长一段差距。 半导体领域，我们喊了几十年，加油了几十年，龙芯是前车之鉴，但国人并没有反思，好不容易华为能自主设计芯片，国人一片欢呼，认为在芯片领域，我们走在世界前列。国外一卡脖子，我们才发现，在半导体领域
-
国产28NM光刻机的技术现状，不要盲目乐观，不要搞惊吓体，进来看看。
报道2：“这 个日本零件虽然不是核心部件，但是价值昂贵，对28NM光刻机的整机制造依然十分关键，美国会命令日本禁售吗？”4、所以，在28NM光刻机没有上市之前，是否可以低调些？以为内现在的问题就是：国产28NM光刻机用到的日本部件，能不能国产替代？
-
我国目前国产光刻机、蚀刻机的现状
简单来讲，光刻机通过光在桂圆上进行刻画电路，光刻机采用类似照片冲印的技术，把母版上的精细图形通过曝光转移至硅片上，一般来说，光刻分辨力越高，加工的芯片集成度也就越高，但传统光刻技术由于受到光学衍射效应的影响，分辨力进一...
-
国产光刻机发展现状研究
国产光刻机的技术仍然落后于国外，在技术研发以及人才建设上还有很长的路要走。光刻机是光刻工艺的核心设备，价值含量大、技术要求高，涉及精密光学、精密运动、高精度环境控制等多项先进技术。在所有晶圆制造设备中，光刻机设备投资占...
-
2020年中国光刻机行业发展现状分析，国产企业如何开启破局之路？
相关报告：华经产业研究院发布的《2021-2026年中国光刻机行业市场供需格局及行业前景展望报告》；四、国产光刻机破局之路随着中...
-
我国光刻机发展现状与展望
我国光刻机产业现状 根据中国光学光电子行业协会发布的数据，2022年，我国光刻机市场规模达到了200亿元左右。其中，国产光刻机市场规模为60亿元左右，占比约30%。我国光刻机产业主要集中在上海...
-
国产光刻机一个也没有，中企暴露国内半导体行业现状！
越是在这个关键时刻，我们越应该鼓励运动员加油，怎么看好国产光刻机的发展，反而变成吹牛了呢？为何不能把它当成一种鼓励呢？不...
浏览更多安心，自主掌握个人信息!
我们尊重您的隐私，只浏览不追踪
