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  • 中国7nm光刻机技术申请专利！外国议论纷纷

    当下，咱们已经可以量产 14nm 制程光刻机了，虽然说距离世界顶尖水平还有不短的距离，但他们已然在技术层面没有了再度突破的可能，而我们却还有极大的进步空间。卡脖子策略只会让中国光刻机...

  • 中国3nm光刻机研发成功了吗(中端光刻机研发成功)华信财经网

    中国3nm光刻机研发成功了吗 随着科技的不断发展，芯片制造技术也在不断进步。在这个领域中，光刻技术是至关重要的一环。近年来，中国在3nm光刻机的研发上取得了长足进步，引起了业界的广泛关注。那么，中国的3nm光刻机研发是否取得了成...

  • 华虹12寸晶圆厂装备大陆最先进沉浸式光刻机：迈向14nm

    中芯国际花了1.2亿美元从荷兰ASML（阿斯麦）买来一台EUV极紫外光刻机，未来可用于生产7nm工艺芯片，长江存储也迎来了自己的第一台光刻机，同样来自ASML，不过是193nm沉浸式，用于产20-14nm工

  • 国产芯片自主化新进展：除光刻机外，14nm工艺已实现全面国产

    从现有的情况来看，除了光刻机之外，中国已经基本实现了14纳米芯片生产的自主化。从晶圆制造到前道工序，再到后道工序，整个芯片生产流程中的各个环节都在逐步推进国产替代。晶圆制造方面，中国已经能够制造300毫米的晶圆，这对于生产3纳米、2纳米的芯片而言，并不存在技术障碍。 然而，前道工序则相对复杂，涉及的设备种类最多，也最为关键。这里需要使用光刻机、刻蚀机、清洗机、离子注入等多种设备。在这些设备中，国产刻蚀机的技术最为先进，已经达到了3纳米级

  • 中国国产的光刻机最小制程能达到多少？有没有国产光刻机？尹华峰博客

    而在国内，同为晶圆制造企业的中芯国际目前的量产工艺为14nm。2018年，中芯国际曾给阿斯麦发出第一张EUV光刻机订单，但由于美国方面的技术管制，这台EUV光刻机还迟迟没有交付到中芯国际手里，而EUV光刻机是实现7nm工艺的关键设备。美国的技术管制则主要来源于1995年包括美国...

  • 华虹12寸晶圆厂装备大陆最先进沉浸式光刻机：迈向14nm

    未来可用于生产7nm工艺芯片，长江存储也迎来了自己的第一台光刻机，同样来自ASML，不过是193nm沉浸式，用于产20-14nm工艺的3D ...

  • 别担心，我们能买到的ASML光刻机，能支撑到7nm工艺

    所以一时之间，网友们都非常担心，觉得我们芯片产业最重要的可能就是卡在光刻机上面了，因为国产的才90nm精度，而浸润式光刻机也受限，那么我们可能很长一段时间，因为光刻机的原因要卡在14nm了...

  • 中芯国际后，中国大陆第2家能制造14nm芯片的厂商，诞生了

    制造14nm芯片，并不需要EUV光刻机，只要DUV光刻机即可，而DUV光刻机，ASML是随便想卖就能卖过来的，并不需要许可，所以只要14nm工艺的技术能力达到了，设备就不是问题，不会受限。

  • 芯片不好卖，美国急了？连14nm都想卡死中国大陆，逼我们买芯片

    按照媒体的报道，美国政府正在考虑对向中国出口芯片制造工具（含DUV光刻机、EDA工具等）增加新的针对性限制，试图在不减缓芯片流入全球市场速度的前提下，阻碍中国大陆的晶圆制造，特别是14nm及...

中国有14nm光刻机吗

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