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  • 改善干法蚀刻均匀性的气体分散装置、反应腔室及蚀刻机的制作方法

    17.根据本实用新型的又一方面，还公开了一种干法蚀刻icp机，所述干法蚀刻icp机包括如上所述的晶片反应腔室。18.通过利用本实用新型实施例中的改善干法蚀刻均匀性的气体分散装置及晶片反应腔室，...

  • 一种干法蚀刻设备ICP尾气处理装置

    本实用新型公开了一种干法蚀刻设备ICP尾气处理装置，包括干泵以及与干泵连通的尾气管；所述尾气管上安装有与管内连通的氮气吹扫装置，且在尾气管的管壁上包裹有保温棉；所述尾气管的自由端安装...

  • 湖畔光电科技(江苏)有限公司干法蚀刻机

    本 湖畔光电科技（江苏）有限公司干法蚀刻机-ICP设备采购及相关服务 已由项目审批/核准/备案机关批准，项目资金来源为 其他，招标人为 湖畔光电科技（江苏）有限公司。本项目已具备招标条件，现...

  • 一种干法蚀刻机终点侦测系统

    本发明公开了一种干法蚀刻机终点侦测系统，包括侦测器，所述侦测器的上端位置定位安装有顶壳，所述侦测器与顶壳之间密封定位有密封座，所述侦测器的前端一侧位置开设有光纤通光孔，且侦测器前端...

  • 一种干法蚀刻机终点侦测系统

    本实用新型公开了一种干法蚀刻机终点侦测系统，包括侦测器，所述侦测器的上端位置定位安装有顶壳，所述侦测器与顶壳之间密封定位有密封座，所述侦测器的前端一侧位置开设有光纤通光孔，且侦测器...

  • ICP等离子刻蚀机/科研型干法刻蚀机 4

    马可波罗网（makepolo.com）提供ICP等离子刻蚀机/科研型干法刻蚀机 4-8寸晶圆 WINETCH，产品详情：品牌：其他、型号：WINETCH、用途：刻蚀、进料宽度：203mm、蚀刻区长度：203mm、蚀刻精度：0....

  • ICP等离子刻蚀机/科研型干法刻蚀机 4

    马可波罗网（makepolo.com）提供ICP等离子刻蚀机/科研型干法刻蚀机 4-8寸晶圆 WINETCH，产品详情：品牌：其他、型号：WINETCH、类型：等离子刻蚀、加工定制：非加工定制、用途：刻蚀、进料宽度...

  • Invenia干法蚀刻机上盖板O

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  • ULVAC 蚀刻机设备 干法刻蚀机NE

    阿里巴巴ULVAC 蚀刻机设备 干法刻蚀机NE-5000N，NA-2，为您找到ULVAC 蚀刻机设备 干法刻蚀机NE-5000N，NA-2淘宝、天猫、京东、亚马逊同款货源，欲了解更多相关货源详细信息,请点击访问!

  • 干法蚀刻方法以及硅片蚀刻方法

    专利名称：干法蚀刻方法以及硅片蚀刻方法 技术领域：本发明涉及一种集成电路制造领域的蚀刻方法，特别是涉及一种可以 有效避免"首片效应"的干法蚀刻方法以及硅片蚀刻方法。背景技术：硅栅蚀刻是...

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