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  • ICP等离子刻蚀机

    ICP干法刻蚀是一种常见的微纳加工技术,其原理是利用高频电场将气体离子化,使其形成等离子体,然后将等离子体引入反应室中,利用反应室内的化学反应对材料进行腐蚀或沉积。在ICP干法刻蚀中,高频电场的作用是将气体分子电离,形成电...

  • 碳化硅ICP刻蚀速率及表面形貌研究

    刻蚀作为加工SiC的理想手段运用也越来越广泛，文中就此展开研究，详细研究ICP刻蚀过程中各参数对其刻蚀速率及表面形貌的影响，对加工SiC具有一定指导意义。关键词：ICP 刻蚀速率、刻蚀形...

  • ICP反应刻蚀ZnS的工艺研究

    内容提示：I CP 反应刻蚀 ZnS 的工艺研究 蔡长龙，邢静（西安工业大学 光电工程学院，西安 710032）摘 要：（目的）本文采用感应耦合等离子体（inductively coupled plasma,ICP）技术研究了 ZnS...

  • 中微公司喜迎ICP刻蚀设备Primo nanova系列第500台付运里程碑 港美股资讯|华盛通

    中微公司的电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备Primo nanova系列第500台反应腔顺利付运国内一家先进的半导体芯片制造商。近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）的电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备Primo ...

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  • ICP刻蚀机腔室设计优化研究

    1．3．1 ICP刻蚀技术及应用 1．3．2 ICP刻蚀技术的发展 1．3．3 ICP设备的关键部件技术 1．3．4 LED刻蚀机台国内外发展现状 1．4论文主要研究内容和章节安排 第2章ICP刻蚀设备...

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