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ICP
ICP-RIE 是一种先进的技术,旨在提供高蚀刻速率、高选择性和低损伤处理。由于等离子体可以保持在低压下,因此还提供了出色的轮廓控制。ICP-RIE原理 首先,ICP-RIE系统引入特定的气体(比如SF6,...
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ICP许可证跟edi有什么区别?
ICP许可证和EDI许可证都属于第二类增值电信业务。需要搞清楚的是,二者分别是什么,对应什么样的互联网业务,明确这两点之后也就知道它们的区别了。什么是ICP许可证?1、定义 ICP经营许可证属于...
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ICP、SP证之间有什么区别与联系?全面解析在此!
很多人总是对ICP、SP证傻傻分不清楚,下面就为你全面解析两证的区别与联系。常听客户反映,ICP和SP证容易搞混,不知道公司经营的业务到底是该申请ICP呢还是SP证书呢,傻傻分不清,甚是头疼。这...
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ICP
ICP-RIE是一种先进的技术,旨在提供高蚀刻速率、高选择性和低损伤处理。由于等离子体可以保持在低压下,因此还提供了出色的轮廓控制。ICP-RIE原理 首先,ICP-RIE系统引入特定的气体(比如SF6,...
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三、ICP光谱仪的常见问题处理 1.试剂空白和校准空白的区别 答:校准空白是配标准曲线用的稀释液。用水配的校准空白是水,若用 1%硝酸配,那么校准空白就是 1%硝酸。试剂空白跟样品前处理走的...
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智芯文库|5分钟看懂刻蚀工艺:干法刻蚀、湿法刻蚀、刻蚀设备国产化进程.
其中CCP属于中密度等离子体,ICP则属于高密度等离子体。CCP技术的发明早于ICP,但由于其特点的不同,两类技术并非相互取代,而是相互补充的关系。CCP的等离子密度虽然较低,但能量较高,适合刻...
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ICP
ICP-OES与ICP-MS区别 查看全部内容>> 电感耦合等离子体(ICP)是用于原子发射光谱和质谱的主要光源,以ICP为中心,在周围安装多个检测单元(每一元素配一个检测单元),形成了多元素分析系统。2022-...
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全球半导体设备格局及趋势最全解读
等离子体刻蚀机可以根据等离子体产生和控制技术的不同而大致分为两大类,即电容耦合等离子体(capacitively coupled plasma,CCP)刻蚀机和电感耦合等离子体(Inductively coupled plasma,ICP...
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芯片是怎样“炼”成的?
芯片的刻蚀机市场方面,美国泛林半导体市场占有率是全球[敏感词],日本的东京电子的ccp(capacitive coupled plasma 电容耦合)刻蚀机占到全球出货量的一半,美国应用材料公司是刻蚀机多应用在...
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半导体制造主要设备
等离子体刻蚀机可以根据等离子体产生和控制技术的不同而大致分为两大类,即电容耦合等离子体(capacitively coupled plasma,CCP)刻蚀机和电感耦合等离子体(Inductively coupled plasma,ICP...
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