-
西方最担心的事来了！中国半导体设备，已基本做到自主可控！
据尹志尧介绍，中微公司的等离子体刻蚀机，包括高能CCP及低能ICP刻蚀机，可以全面取代国际先进设备。看来，西方的好日子可能真的不多了。刻蚀机作用 说到刻蚀机，大家可能不知道，它的重要性堪...
-
国家大基金再出手，25亿入股800亿巨头！私募大佬邓晓峰也行动了
公司CCP 刻蚀设备已批量应用于国内外一线客户从65nm 到5nm 集成电路制造产线、64 层及128 层3D NAND 产线，并已取得5nm及以下逻辑电路产线的重复订单；ICP 刻蚀设备逐步成熟，已成功进入海内外...
-
一周研报精粹：半导体短缺设备确定性机会强，硅片供需吃紧至2023年
中微公司CCP打入TSMC，ICP加速放量；精测电子产品迭代加速，OCD、电子束进展超预期；华峰测控订单饱满，新机台加速放量。Mattson（屹唐半导体）在去胶设备市占率全球第二。盛美半导体、至纯科技...
-
半导体设备市场，下半年能否延续高增长？蓝鲸财经
在集成电路核心装备领域，北方华创成功研发出高密度等离子体化学气相沉积（HDPCVD）、双大马士革 CCP 刻蚀机、立式炉原子层沉积（ALD）、高介电常数原子层沉积（ALD）等多款具有自主知识产权的...
-
半导体设备，唯一的亮点？
在国际最先进的5纳米芯片生产线及下一代更先进的生产线上，中微公司的CCP刻蚀设备实现了多次批量销售，已有超过 200 台反应台在生产线合格运转。本期刻蚀设备收入为8.14亿元，较上年同期增长约...
-
《科创板巡礼》中微半导体：强化创新研发，严控知识产权
中微公司 首先开发甚高频去耦合等离子体刻蚀（CCP）设备，2007年推出双反应台 Primo D-RIE，适用于65-16纳米工艺节点；2011年推出双反应台 Primo AD-RIE，适用于45-7纳米工艺节点；2013年推出单...
-
半导体设备，唯一的亮点？
在国际最先进的5纳米芯片生产线及下一代更先进的生产线上，中微公司的CCP刻蚀设备实现了多次批量销售，已有超过 200 台反应台在生产线合格运转。本期刻蚀设备收入为8.14亿元，较上年同期增长约...
-
Samco宣布销售额达到里程碑
RIE-10NR电容耦合等离子（CCP）型反应离子蚀刻（RIE）研发系统是Samco广为人用的系统，其出货量已达到500台的里程碑。理化学研究所新兴物质科学中心量子电子器件研究团队负责人Michihisa ...
-
半导体设备公司订单饱满零部件交付延迟“拖后腿”西部热线
2021年，国内蚀刻机设备龙头企业中威公司新签合同41.3亿元，同比增长90.5%我们的CCP蚀刻设备已经批量应用于国内外一线客户的IC生产线 今年一季度，叶晚企业控股子公司凯仕通累计新增集成电路...
蚀刻中icp和ccp的区别
相关内容浏览更多安心，自主掌握个人信息!
我们尊重您的隐私，只浏览不追踪
