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冰刻技术能生产芯片了？EUA光刻机要淘汰了
为了实现国产芯片自主可控，不少研究机构开始探索一种绕开光刻机的方法。西湖大学研发的冰式光刻机，便是其中之一。冰刻机工作原理及过程冰刻机的物理依据十分简单，在零下将近140°的真空环境中，水可以直接凝结成冰。冰刻机便是依据水...
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我能把芯片和光刻机核心技术完全掌握，华为公司能给我多少年薪？华为
这个问题很好回答，就冲你在没有亮出真正实力之前，首先问给你的年薪是多少这一点，就能充分证明你根本不了解也不掌握芯片和光刻机的核心技术！不信你看，凡稿田里饱满成熟的稻穗都是沉甸甸的低着头！哪有扬脖抬头的？→黄粱美梦该醒醒...
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比亚迪再次出手，芯片生产线的光刻机、刻蚀机、已经安装完成
比亚迪 再次出手，芯片生产线的光刻机、刻蚀机、离子注入机等关键设备已经安装完成，比亚迪 半导体每一次出手，都让人激动，这次在长沙的8英寸芯片生产线已经进入生产调试阶段，估计下个月就开始投产了，年计划生产50万片，将进一步满足车规级芯片的需求。长沙的这座比亚迪半导体八英寸晶圆生产线总...
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ASML 官宣新一代光刻机研发进展，芯片厂商打响“2nm 工艺战”
ASML官宣新一代光刻机研发进展，芯片厂商打响“2nm 工艺战”用于生产2nm芯片的ASML新款光刻机预计在2025年首次投入使用，对芯...
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中国芯片取得重大技术突破：挑战光刻机的垄断者大霸主
在技术方面，ASML光刻机可以使用波长为13.5纳米的极紫外光（EUV），实现14纳米、10纳米、和7纳米制程的芯片生产，而通过技术升级，也可以实现9纳米，8纳米，6纳米，5纳米，4纳米乃至3纳米等制程...
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中国芯片取得重大技术突破：挑战光刻机的垄断者大霸主
在技术方面，ASML光刻机可以使用波长为13.5纳米的极紫外光（EUV），实现14纳米、10纳米、和7纳米制程的芯片生产，而通过技术升级，也可以实现9纳米，8纳米，6纳米，5纳米，4纳米乃至3纳米等制程...
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售价1.2亿美元的光刻机对中国半导体业意味着什么？国产芯片进程正在加速
半导体进展顺利，设备进入采购高峰期。中芯国际已订购一套极紫外光刻（EUV）设备，售价1.2亿美元，这是目前最昂贵和最先进的芯片生产工具。近期，长江存储采购的光刻机为ASML的193nm浸润式光刻机，售价...
芯片光刻机生产厂家
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