-
好消息!清华大学宣布科研成果有望解决光刻机自主研发难题
EUV光刻机的自主研发还有很长的路要走，基于SSMB的EUV光源有望解决自主研发光刻机中最核心的“卡脖子”难题。这需要SSMBEUV光源的持续科技攻关，也需要上下游产业链的配合，才能获得真正成功。...
-
清华团队新成果在《自然》发表：有望解决光刻机自主研发难题
“SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源，这是国际社会高度关注清华大学SSMB研究的重要原因。唐传祥介绍。在芯片制造的产业链中，光刻机是必不可少的精密设备，是集成电路芯片制造...
-
清华团队新成果在《自然》发表：有望解决光刻机自主研发难题
“SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源，这是国际社会高度关注清华大学SSMB研究的重要原因。唐传祥介绍。在芯片制造的产业链中，光刻机是必不可少的精密设备，是集成电路芯片制造...
-
清华团队在《自然》发文 新突破有望解决光刻机自主研发难题
“SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源，这是国际社会高度关注清华大学SSMB研究的重要原因。唐传祥告诉记者。在芯片制造的产业链中，光刻机是必不可少的精密设备，是集成电路芯片...
-
清华团队新成果在《自然》发表：有望解决光刻机自主研发难题
“SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源，这是国际社会高度关注清华大学SSMB研究的重要原因。唐传祥介绍。在芯片制造的产业链中，光刻机是必不可少的精密设备，是集成电路芯片制造...
-
清华团队新成果在《自然》发表：有望解决光刻机自主研发难题
“SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源，这是国际社会高度关注清华大学SSMB研究的重要原因。唐传祥告诉记者。在芯片制造的产业链中，光刻机是必不可少的精密设备，是集成电路芯片...
-
1.8nm！清华大学攻克光刻机核心难题，专家：5年完成所有尖端设备
近期清华大学传来好消息，相关科研团队已经攻克光刻机的核心难题。有望在5年内完成所有尖端设备。届时，我们国内也能够生产1.8纳米的高端芯片，我们的未来发展道路将更为宽阔。被西方国家垄断的...
-
清华团队在《自然》发文 新突破有望解决光刻机自主研发难题
“SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源，这是国际社会高度关注清华大学SSMB研究的重要原因。唐传祥告诉记者。在芯片制造的产业链中，光刻机是必不可少的精密设备，是集成电路芯片...
浏览更多安心，自主掌握个人信息!
我们尊重您的隐私，只浏览不追踪
