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  • 北方华创取得半导体工艺腔室及其支撑机构专利

    北方华创取得半导体工艺腔室及其支撑机构专利,专利,腔室,半导体,微电子,北方华创,国家知识产权局

  • 半导体工艺

    这样获得的图形用作蚀刻工艺或者implantation的mask。半导体行业中，photo设备约占生产设备费用的约35%， 工艺时间约为40%。半导体尺寸降低的主要限制是photo 设备技术难以突破。 特性参数： -Resolution 分辨率：…​...

  • 北方华创申请用于半导体工艺设备尾气排放装置专利, 能够防止副产物在尾气管口沉积

    金融界2024年11月27日消息，国家知识产权局信息显示，北京北方华创微电子装备有限公司申请一项名为“用于半导体工艺设备的尾气排放装置及半导体工艺设备”的专利，公开号CN119020856A，申请日期为2023年5月。专利摘要显示，本...

  • 长鑫存储申请半导体结构及其制备方法专利，简化制备半导体结构的工艺步骤

    本文源自:金融界 金融界2024年11月28日消息，国家知识...电容结构，电容结构位于阵列区，电容结构穿过第一介质层与第一导电结构的顶表面电接触本公开实施例所提供的半导体结构及其制备方法至少可以简化制备半导体结构的工艺步骤。

  • 半导体工艺？

    光刻胶的黏附性不足会导致半导体晶圆片表面的图形变形。光刻胶的黏附性必须经受住后续工艺，比如刻蚀、离子注入和热扩散等。（6）抗蚀性：光刻胶必须有较强的抗蚀性，才能在后续的工序中起到.

  • 半导体工艺

    半导体工艺 半导体工艺是一门研究半导体 材料制备、半导体器件制造、集成 电路制造工艺的学科。它是电子学 元器件与材料、工艺类中的一个分 支学科。本学科的内容主要有: (1)半导体材料制备工艺...

  • 半导体工艺

    半导体工艺中的蚀刻工艺的选择性 刻蚀的机制，按发生顺序可概分为「反应物接近表面」、「表面氧化」、「表面反应」、「生成物离开表面」等过程。所以整个刻蚀，包含反应物接近、生成物离开的...

  • 这可能最简单的半导体工艺流程（一文看懂芯片制作流程）

    本文来源于公众号“半导体产业园” 本来打算每周中发一篇文章，但是现在是国庆假期期间，就加个班，写了第二篇。码子不易啊~OK，我们进入正题~ 上一期我们聊了CMOS的工作原理，我相信你即使从来...

  • 半导体制造工艺流程概览与氧化

    一般来说，我们所知道的半导体制造的八大工艺分别为：晶圆制造、氧化、光刻、沉积、金属布线、测试和封装。但这八大工艺不能一概而论，如上图所示，严格来说，其实晶圆制造并不是在半导体制造...

  • 半导体工艺

    电子发烧友网讯【编译/David】：据信，英特尔已经通过最新技术—浸润式微影技术，半导体工艺再次获得突破。2012-09-13 标签：英特尔 四核处理器 四核芯片 1939 0 7月12日快讯：LED洗牌/中国...

半导体工艺

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