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SIGS科研 | 李星辉、王晓浩团队综述高端光刻机光栅定位与套刻测量技术发展
近日，基于对光栅衍射及其在超高精度干涉测距与成像应用的深入研究，我院李星辉副教授、王晓浩研究员团队应邀撰文综述高端光刻机光栅定位与套刻测量技术发展。电子信息产业是社会支柱之一，大...
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李星辉、王晓浩团队综述高端光刻机光栅定位与套刻测量技术发展
相关成果分别以“面向光刻机晶圆台的超精密光栅定位技术”（Ultraprecision Grating Positioning Technology for Wafer Stage of Lithography Machine）和“光刻套刻误差测量技术”（Overlay ...
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深圳国际研究生院李星辉、王晓浩团队综述高端光刻机光栅定位与套刻测量技术发展
清华大学深圳国际研究生院李星辉副教授、王晓浩研究员团队应邀撰文综述高端光刻机光栅定位与套刻测量技术发展。电子信息产业是社...
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高端光刻机光栅定位与套刻测量技术发展综述
图1.六自由度光栅编码器（左）、双层叠加光栅套刻误差DBO衍射测量示意图首先，在目前高端光刻机晶圆台的亚 纳米 级定位需求中，光栅干涉测量具有较大优势，测量分辨率可达17pm，长期测量稳定性可达0.22nm，采用先进的二维平面光栅可以实现空间六自由度测量，是14nm及以下光刻工艺制程的重要技术路线。 其中需要突破的关键技术包括多自由度与绝...
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万字长文：说透光刻机
光刻机是芯片制造中最复杂、最昂贵的设备。芯片制造可以包括多个工艺，如初步氧化、涂光刻胶、曝光、显影、刻蚀、离子注入。这个过程需要用到的设备种类繁多，包括氧化炉、涂胶显影机、光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀机、离子注入机、抛光...
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李星辉、王晓浩团队综述高端光刻机光栅定位与套刻测量技术发展
相关成果分别以“面向光刻机晶圆台的超精密光栅定位技术”（Ultraprecision Grating Positioning Technology for Wafer Stage of Lithography Machine）和“光刻套刻误差测量技术”（Overlay ...
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蚀刻机和光刻机有什么区别，原理有什么不一样
光刻机可广泛应用于微纳流控晶片加工、微纳光学元件、微纳光栅、ＮＭＥＭＳ器件等微纳结构器件的制备。刻蚀机是什么 实际上狭义理解就是光刻腐蚀，先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理，然后...
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几种典型的光刻机对准方式及精度
目前的 高精度 光刻设备主要采用的对准方式可以分为光栅衍射空间滤波和场像处理对准技术。从对准原理上及标记结构的角度分类，对准技术可以分为早期的投影光刻中的几何成像对准方式，包括双目显微镜对准、场像对准（field image al...
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清华大学深圳国际研究生院李星辉、王晓浩团队综述高端光刻机光栅定位与套刻测量技术发展
【清华大学深圳国际研究生院李星辉、王晓浩团队综述高端光刻机光栅定位与套刻测量技术发展】近日，基于对光栅衍射及其在超高精度干涉测距与成像应用的深入研究，清华大学深圳国际研究生院@清华...
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深圳国际研究生院李星辉、王晓浩团队综述高端光刻机光栅定位与套刻测量技术发展
清华大学深圳国际研究生院李星辉副教授、王晓浩研究员团队应邀撰文综述高端光刻机光栅定位与套刻测量技术发展。 电子信息产业是...
光栅是用光刻机刻的吗
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