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国内光刻胶领域先驱 苏州瑞红成功挂牌新三板
本报讯(记者戴晓刚)2月16日,苏州瑞红电子化学品有限公司(简称“苏州瑞红”)成功挂...
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光刻胶曝光设备
光刻胶曝光,显影分析设备1、开放式专用曝光机 UVES-2000(i线,g线,h线,Krf, broad band)...
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光刻胶
电子束光刻胶、宽带厚胶、紫外光刻薄胶、纳米压印胶、聚酰亚胺光刻胶 正性光刻胶,稳定性好;适用于分辨率要求较高的光刻工艺 正性i线光刻胶,适用于各类接触式光刻机(maskaligner),stepp...
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彩色光刻胶
i-Line0.8—1.44umRGB彩色光阻,可通单色光染色SU-8g/h/i-Line15-2000.5um负性环氧类化学放大光刻胶;红色、蓝色、黄色、紫色、绿色、黑色;应用于Filter, colorfilter array (C...
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正/负性光刻胶
汶颢股份提供Mirochem SU 8 光刻胶和AZ系列光刻胶。正性、负性光刻胶的工艺、参数、用途及相关说明。提供微流控芯片实验室所使用的加工制作耗材,满足制作芯片的一切所需。欢迎来电咨询光刻胶...
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默克集团宣布在华新研发项目 苏州光刻胶实验室启用
同时,默克宣布启用位于江苏省苏州市的光刻胶研发实验室,并沟通了位于上海的OLED技术中国中心项目的建设。发言人表示,在2017年度,默克高性能材料业务已经在中国投资逾一亿人民币。举报评论 0请先 登录 后发表评论~...
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苏州光刻胶厂家 光刻胶 赛米莱德
超过80%市场份额掌握在日本住友、TOK、美国陶氏、美国futurrex等公司手中,国内公司中,苏州瑞红与北京科华实现了部分品种的国产化,苏州光刻胶厂家,整体技术水平较低,仅能进入8英寸集成电路生产线与LED等产线。光刻的工序下面我们...
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苏州光刻胶单体公司招聘规模排名
在苏州有招聘的光刻胶单体公司有哪些?职友集根据近60天企业在各大招聘网站发布过职位的数据统计,为你提供苏州光刻胶单体公司招聘名单,数据每天更新,仅供参考
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光刻胶的类型和优缺点分析
耐干法刻蚀性差。汶颢芯片www.whchip.com原创作者:苏州汶颢芯片科技有限公司
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SU
SU-8光刻胶工艺路线及工艺流程1)对衬底进行清洗,并在200℃烘30分钟以上以去除表面水分子2)用厚胶甩胶工艺在基片表面旋涂所需要厚度的SU-8光刻胶3)利用热板对SU-8光刻胶进行前烘处理,在热板上...
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